目前市場上，真空斷路器的發展變得越來越快，那么是什么因素造成了真空斷路器迅速發展的原因呢？其一是真空滅弧室技術的進步；二是操動機構技術的進步。真空滅弧室是真空斷路器的心臟。真空滅弧室的進步主要表現在如觸頭材料從CuBi轉變成CuCr，提高了開端能力，降低了截流值，同時磁場從橫磁場轉向縱磁場，減少了觸頭的燒損。在工藝上，一次排封工藝的采用，使得提高了滅弧室性能及可靠性。
  操動機構被稱之為真空斷路器的神經中樞，原先用電磁機構，后來出現了彈簧機構，又出現了永磁機構。彈簧機構結構復雜，零件數多（多達200個），加工精度要求高，且彈簧機構的出力特性與真空斷路器的負載特性不相匹配，要在凸輪輪廓曲線和連桿結構上進行合理設計。永磁機構的機械結構特別簡單，零部件比任何其他機構都要少，運動部件可以減少至一個，因而機械可靠性特別高，而且永磁機構的出力特性能與真空斷路器的負載特性很好的匹配。永磁機構用永磁鎖扣，電容器（或直流屏供電）儲能，用電子控制。永磁機構特別適用于頻繁操作，如可達6萬～15萬次。
  真空斷路器的發展勢不可擋，其市場的前景也是非常樂觀的，要保持真空斷路器的發展趨勢，技術的創新是不能夠停止的。